SLA (استریولیتوگرافی) یک فرآیند تولید افزایشی است که با تمرکز لیزر UV بر روی یک مخزن رزین فوتوپلیمر کار می‌کند. با کمک نرم‌افزارهای تولید به کمک کامپیوتر یا طراحی به کمک کامپیوتر (CAM/CAD)، از لیزر UV برای ترسیم یک طرح یا شکل از پیش برنامه‌ریزی شده روی سطح مخزن فوتوپلیمر استفاده می‌شود. فوتوپلیمرها به نور ماوراء بنفش حساس هستند، بنابراین رزین به صورت فتوشیمیایی جامد شده و یک لایه واحد از جسم سه‌بعدی مورد نظر را تشکیل می‌دهد. این فرآیند برای هر لایه از طرح تکرار می‌شود تا جسم سه‌بعدی کامل شود.
شرکت کارمانهاس می‌تواند سیستم نوری خود را که عمدتاً شامل اسکنر گالوانومتر سریع و لنز اسکن F-THETA، بسط‌دهنده پرتو، آینه و غیره است، به مشتریان ارائه دهد.
سر اسکنر گالوو 355 نانومتری
| مدل | PSH14-H | PSH20-H | PSH30-H |
| هد اسکن آب‌بندی‌شده/خنک‌کننده‌ی آب | بله | بله | بله |
| دیافراگم (میلی‌متر) | 14 | 20 | 30 |
| زاویه اسکن موثر | ±10 درجه | ±10 درجه | ±10 درجه |
| خطای ردیابی | ۰.۱۹ میلی‌ثانیه | 0.28 میلی‌ثانیه | 0.45 میلی‌ثانیه |
| زمان پاسخ مرحله (1٪ از مقیاس کامل) | ≤ 0.4 میلی‌ثانیه | ≤ 0.6 میلی‌ثانیه | ≤ 0.9 میلی‌ثانیه |
| سرعت معمول | |||
| موقعیت یابی / پرش | <15 متر بر ثانیه | <12 متر بر ثانیه | کمتر از 9 متر بر ثانیه |
| اسکن خطی/اسکن شطرنجی | <10 متر بر ثانیه | <7 متر بر ثانیه | کمتر از ۴ متر بر ثانیه |
| اسکن برداری معمولی | کمتر از ۴ متر بر ثانیه | <3 متر بر ثانیه | کمتر از ۲ متر بر ثانیه |
| کیفیت نوشتاری خوب | ۷۰۰ سی‌پی‌یو | ۴۵۰ سی‌پی‌یو | ۲۶۰ سی‌پی‌یو |
| کیفیت نوشتاری بالا | ۵۵۰ سی‌پی‌یو | ۳۲۰ سی‌پی‌یو | ۱۸۰ سی‌پی‌یو |
| دقت | |||
| خطی بودن | ۹۹.۹٪ | ۹۹.۹٪ | ۹۹.۹٪ |
| وضوح تصویر | ≤ ۱ اوراد | ≤ ۱ اوراد | ≤ ۱ اوراد |
| تکرارپذیری | ≤ ۲ اوراد | ≤ ۲ اوراد | ≤ ۲ اوراد |
| رانش دما | |||
| رانش افست | ≤ ۳ اوراد/℃ | ≤ ۳ اوراد/℃ | ≤ ۳ اوراد/℃ |
| انحراف بلندمدت Qver 8hours (پس از 15 دقیقه هشدار) | ≤ 30 اوراد | ≤ 30 اوراد | ≤ 30 اوراد |
| محدوده دمای عملیاتی | 25℃±10℃ | 25℃±10℃ | 25℃±10℃ |
| رابط سیگنال | آنالوگ: ±10 ولت دیجیتال: پروتکل XY2-100 | آنالوگ: ±10 ولت دیجیتال: پروتکل XY2-100 | آنالوگ: ±10 ولت دیجیتال: پروتکل XY2-100 |
| توان ورودی مورد نیاز (DC) | حداکثر مقدار مؤثر جریان (RMS) ±15 ولت @ 4 آمپر | حداکثر مقدار مؤثر جریان (RMS) ±15 ولت @ 4 آمپر | حداکثر مقدار مؤثر جریان (RMS) ±15 ولت @ 4 آمپر |
۳۵۵ نانومتراف-تتا لنزes
| توضیحات قطعه | فاصله کانونی (میلی‌متر) | میدان اسکن (میلی‌متر) | ورودی حداکثر مردمک چشم (میلی‌متر) | فاصله کاری (میلی‌متر) | نصب موضوع |
| SL-355-360-580 | ۵۸۰ | ۳۶۰x۳۶۰ | 16 | ۶۶۰ | M85x1 |
| SL-355-520-750 | ۷۵۰ | ۵۲۰x۵۲۰ | 10 | ۸۲۴.۴ | M85x1 |
| SL-355-610-840-(15CA) | ۸۴۰ | 610x610 | 15 | ۹۱۰ | M85x1 |
| SL-355-800-1090-(18CA) | ۱۰۹۰ | ۸۰۰x۸۰۰ | 18 | ۱۱۹۳ | M85x1 |
گسترش‌دهنده پرتو ۳۵۵ نانومتری
| توضیحات قطعه | گسترش نسبت | ورودی CA (میلی‌متر) | خروجی CA (میلی متر) | مسکن دیا (میلی متر) | مسکن طول (میلی‌متر) | نصب موضوع |
| BE3-355-D30:84.5-3x-A(M30*1-M43*0.5) | 3X | 10 | 33 | 46 | ۸۴.۵ | M30 * 1-M43 * 0.5 |
| BE3-355-D33:84.5-5x-A(M30*1-M43*0.5) | 5X | 10 | 33 | 46 | ۸۴.۵ | M30 * 1-M43 * 0.5 |
| BE3-355-D33:80.3-7x-A(M30*1-M43*0.5) | 7X | 10 | 33 | 46 | ۸۰.۳ | M30 * 1-M43 * 0.5 |
| BE3-355-D30:90-8x-A(M30*1-M43*0.5) | 8X | 10 | 33 | 46 | ۹۰.۰ | M30 * 1-M43 * 0.5 |
| BE3-355-D30:72-10x-A(M30*1-M43*0.5) | ۱۰ برابر | 10 | 33 | 46 | ۷۲.۰ | M30 * 1-M43 * 0.5 |
آینه ۳۵۵ نانومتری
| توضیحات قطعه | قطر (میلی‌متر) | ضخامت (میلی‌متر) | پوشش |
| ۳۵۵ آینه | 30 | 3 | HR@355nm، 45° AOI |
| ۳۵۵ آینه | 20 | 5 | HR@355nm، 45° AOI |
| ۳۵۵ آینه | 30 | 5 | HR@355nm، 45° AOI |
