SLA (Stereolithography) یک فرآیند تولید افزودنی است که با متمرکز کردن لیزر UV بر روی مخزن رزین فوتوپلیمر کار می‌کند. با کمک نرم افزار تولید به کمک کامپیوتر یا طراحی به کمک کامپیوتر (CAM/CAD)، لیزر UV برای کشیدن طرح یا شکل از پیش برنامه ریزی شده روی سطح محفظه فتوپلیمر استفاده می شود. فتوپلیمرها به نور فرابنفش حساس هستند، بنابراین رزین از نظر فتوشیمیایی جامد می شود و یک لایه واحد از جسم سه بعدی مورد نظر را تشکیل می دهد. این فرآیند برای هر لایه از طرح تکرار می شود تا شی 3 بعدی کامل شود.
CARMANHAAS می تواند سیستم نوری را به مشتریان ارائه دهد که عمدتاً شامل اسکنر گالوانومتر سریع و لنز اسکن F-THETA، گسترش دهنده پرتو، آینه و غیره است.
سر اسکنر گالوو 355 نانومتری
| مدل | PSH14-H | PSH20-H | PSH30-H |
| سر اسکن آب خنک/ مهر و موم شده | بله | بله | بله |
| دیافراگم (میلی متر) | 14 | 20 | 30 |
| زاویه اسکن موثر | ± 10 درجه | ± 10 درجه | ± 10 درجه |
| خطای ردیابی | 0.19 میلی‌ثانیه | 0.28 میلی‌ثانیه | 0.45 میلی‌ثانیه |
| زمان پاسخ گام (1% از مقیاس کامل) | ≤ 0.4 میلی ثانیه | ≤ 0.6 میلی ثانیه | ≤ 0.9 میلی ثانیه |
| سرعت معمولی | |||
| موقعیت یابی / پرش | < 15 متر بر ثانیه | < 12 متر بر ثانیه | < 9 متر بر ثانیه |
| اسکن خط / اسکن شطرنجی | < 10 متر بر ثانیه | < 7 متر بر ثانیه | < 4 متر بر ثانیه |
| اسکن برداری معمولی | < 4 متر بر ثانیه | < 3 متر بر ثانیه | < 2 متر بر ثانیه |
| کیفیت نوشتن خوب | 700 cps | 450 cps | 260 cps |
| کیفیت نوشتن بالا | 550 cps | 320 cps | 180 cps |
| دقت | |||
| خطی بودن | 99.9٪ | 99.9٪ | 99.9٪ |
| قطعنامه | ≤ 1 اورد | ≤ 1 اورد | ≤ 1 اورد |
| تکرارپذیری | ≤ 2 اوراد | ≤ 2 اوراد | ≤ 2 اوراد |
| رانش دما | |||
| افست دریفت | ≤ 3 اوراد / ℃ | ≤ 3 اوراد / ℃ | ≤ 3 اوراد / ℃ |
| دریفت افست بلند مدت 8 ساعت Qver (پس از 15 دقیقه هشدار) | ≤ 30 اوراد | ≤ 30 اوراد | ≤ 30 اوراد |
| محدوده دمای عملیاتی | 25℃±10℃ | 25℃±10℃ | 25℃±10℃ |
| رابط سیگنال | آنالوگ: ± 10 ولت دیجیتال: پروتکل XY2-100 | آنالوگ: ± 10 ولت دیجیتال: پروتکل XY2-100 | آنالوگ: ± 10 ولت دیجیتال: پروتکل XY2-100 |
| برق مورد نیاز ورودی (DC) | ±15V@ 4A حداکثر RMS | ±15V@ 4A حداکثر RMS | ±15V@ 4A حداکثر RMS |
لنزهای 355 نانومتری F-Theta
| توضیحات قسمت | فاصله کانونی (میلی متر) | فیلد اسکن (میلی متر) | حداکثر ورودی مردمک (میلی متر) | فاصله کاری (میلی متر) | نصب موضوع |
| SL-355-360-580 | 580 | 360x360 | 16 | 660 | M85x1 |
| SL-355-520-750 | 750 | 520x520 | 10 | 824.4 | M85x1 |
| SL-355-610-840-(15CA) | 840 | 610x610 | 15 | 910 | M85x1 |
| SL-355-800-1090-(18CA) | 1090 | 800x800 | 18 | 1193 | M85x1 |
بسط پرتو 355 نانومتری
| توضیحات قسمت | گسترش نسبت | ورودی CA (میلی متر) | خروجی CA (mm) | مسکن قطر (میلی متر) | مسکن طول (میلی متر) | نصب موضوع |
| BE3-355-D30:84.5-3x-A(M30*1-M43*0.5) | 3X | 10 | 33 | 46 | 84.5 | M30*1-M43*0.5 |
| BE3-355-D33:84.5-5x-A(M30*1-M43*0.5) | 5X | 10 | 33 | 46 | 84.5 | M30*1-M43*0.5 |
| BE3-355-D33:80.3-7x-A(M30*1-M43*0.5) | 7X | 10 | 33 | 46 | 80.3 | M30*1-M43*0.5 |
| BE3-355-D30:90-8x-A(M30*1-M43*0.5) | 8X | 10 | 33 | 46 | 90.0 | M30*1-M43*0.5 |
| BE3-355-D30:72-10x-A(M30*1-M43*0.5) | 10X | 10 | 33 | 46 | 72.0 | M30*1-M43*0.5 |
آینه 355 نانومتری
| توضیحات قسمت | قطر (میلی متر) | ضخامت (میلی متر) | پوشش |
| 355 آینه | 30 | 3 | HR@355nm، 45 درجه AOI |
| 355 آینه | 20 | 5 | HR@355nm، 45 درجه AOI |
| 355 آینه | 30 | 5 | HR@355nm، 45 درجه AOI |
